EXC-Lampen
Die GEW EXC-Lampensysteme nutzen Lampen mit dielektrischer Barriereentladung (DBD; auch genannt stille elektrische Ladung), um quasi-monochromatische Vakuum-UV-Strahlung zu erzeugen, typischerweise bei 172 nm. Diese Strahlung wird im Allgemeinen für die Mattierung von Oberflächenbeschichtungen, die Modifizierung der Oberflächenspannung für eine verbesserte Haftung oder die Oberflächenreinigung für die Halbleiter- und Medizinindustrie verwendet.
Die EXC-Lampen von GEW können von 12 bis 230 cm hergestellt werden und können für Ihre spezifische Anwendung entsprechend integriert werden, einschließlich entsprechender Vorrichtungen für erforderliche Stickstoffinertisierung und Steuerung. Sie sind ebenfalls nahtlos in das umfassendere UV-System von GEW integrierbar, was eventuell für die Gelierung oder Nachhärtung erforderlich ist, sodass GEW für Ihren Prozess eine schlüsselfertige Härtungs-/Reinigungslösung bereitstellen kann. Unsere erfahrenen Techniker stellen ebenfalls die stringente Einhaltung internationaler Sicherheitsstandards sicher.
Vorteile von EXC
- Mattierend –
- An/Aus von sofortigem Mattieren
- Zusatzstofffreie Beschichtungen für erhöhte Haltbarkeit und Prozessvereinfachung
- Glanzgrad > 2 G.U.
- Vollständig integriert in das UV-System für Vorgelierung und finales Härten
- Reinigen –
- Hocheffizientes Reinigen auf einer ganzen Reihe von verschiedenen Halbleitersubstraten
- Berührungslos
- Oberflächenmodifikation –
- Bedeutende Erhöhung der Oberflächenenergie
- Kaltes Verfahren für wärmeempfindliche Materialien
- Niedrigenergetische, hocheffiziente UV-Generation (bis zu 40 %)
EXC-Galerie
EXC-Spezifikation
Max. elektrische Leistung | 5W / cm |
Spitzen-Wellenlänge | 172nm* |
Bestrahlungsstärke im Brennpunkt | 30mW / cm² |
Maximale Länge | 230cm |
Normquerschnitt | 164mm W x 130mm H |
Kühlung | N2 / Luft |
Standardmäßige max. Betriebstemperatur | 40°C (104°F) |
Standardmäßige max. Feuchtigkeit | Nicht kondensierend |
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